Test metodları karşılaştırması sonucunda hasar oluşum sürecinin polarizasyonla ilişkisi bakımından belli bulgular ortaya çıkmıştır. Başlangıçtaki hasar morfolojileri polarizasyon durumuna bağlı olup elektrik alanın kaplamadaki dağılımı ile ilişkilidir. S polarizasyonda, başlangıçtaki hasar nodüler atım çukuru şeklindedir. 532 nm polarizörlerin nodüler kusurları, S-polarize lazerle tetiklendiğinde, daha yüksek akılarda bile tamamen dışarı atılamamaktadır. Hasar görmemiş nodüler tohumlar incelendiğinde, parçacık tohumlarının, alttaşa yakın, alt katman olarak da adlandırılan, ilk SiO₂ katmanında yerleşik ve gömülü olduğu gözlemlenmiştir. Tohumun alt kısmı, alt katmana sıkı bir şekilde bağlanmıştır.

Hasar başlangıcını anlamak için, elektrik alan dağılımları sonlu elemanlar yöntemi (FEM) kullanılarak simüle edilmiştir. 80 μm genişliğinde ve 10 μm yüksekliğinde 2B bir simülasyon alanı kullanılmış, x yönünde periyodik sınır koşulları uygulanarak ve y yönünde katman sınır koşulları kullanılarak periyodik sınır koşullarından kaynaklanan geri yansımalar azaltılmıştır. İnce film katman düzeni gerçek kaplamalarla tutarlı tutulmuştur; HfO₂ katmanlarının kırılma indisi nH = 1.92, SiO₂ katmanlarının ve kaynaştırılmış silika alttaşlarının kırılma indisi ise nL = 1.45'tir. Nodüler tohumun boyutu, gözlemlenen boyutlarla uyumlu olup 200 nm uzun eksenli ve 150 nm kısa eksenli eliptik bir şekle sahiptir. 532 nm dalga boyuna ve 56° geliş açısına (AOI) sahip S-polarize lazer ile uyarılmıştır. Nodülün sağ üst tarafındaki HfO₂ katmanlarında güçlü bir elektrik alan şiddeti (EFI) bulunmaktadır. Bu durum termal stres oluşturur ve hasar başlangıcı daha olası hale gelir. Teorik sonuç deneyle uyumlu çıkmıştır; hasar başlangıcı nodülün sağ tarafında olup bu tarafta daha şiddetlidir. Alt katmana gömülü nodüler tohumlar kaplamalarla sıkı bağlar yaptıkları için sağ taraftaki termal stres tarafından tamamen dışarı atılamamıştır.